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首届国际先进光刻技术研讨会闭幕

2017-10-20 微电子研究所
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  10月13日下午,首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕,本次会议为期两天,由集成电路产业技术创新战略联盟主办,中国科学院微电子研究所承办,中芯国际(SMIC)、长江存储(YMTC)、华虹集团等赞助。会议共有200余人参会,分别来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校等。

  会议开始,大会主席、集成电路产业技术创新战略联盟理事长、科技部原副部长曹健林,国家外专局原局长马俊如,科技部重大专项办副巡视员、02专项实施管理办公室副主任邱钢先后为大会致开幕词。

  大会副主席、中科院微电子所所长叶甜春就当前行业趋势作了分析报告。按照大会安排,在这两天的时间里,来自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉宾分别就拟定的主题作了特邀报告,深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案,内容丰富,包含7nm及以下节点的计算光刻技术、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻设备、材料等。

打印 责任编辑:陈丹

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