10月13日下午，首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕，本次会议为期两天，由集成电路产业技术创新战略联盟主办，中国科学院微电子研究所承办，中芯国际(SMIC)、长江存储(YMTC)、华虹集团等赞助。会议共有200余人参会，分别来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校等。

　　会议开始，大会主席、集成电路产业技术创新战略联盟理事长、科技部原副部长曹健林，国家外专局原局长马俊如，科技部重大专项办副巡视员、02专项实施管理办公室副主任邱钢先后为大会致开幕词。

　　大会副主席、中科院微电子所所长叶甜春就当前行业趋势作了分析报告。按照大会安排，在这两天的时间里，来自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉宾分别就拟定的主题作了特邀报告，深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，内容丰富，包含7nm及以下节点的计算光刻技术、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻设备、材料等。