3月15至17日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备总体研究室参加了SEMICON China 2016（由国际半导体设备和材料协会SEMI及中国电子商会CECC共同主办的业界盛会）大会中“IC设计、制造及应用专区”展览会，该展览会在上海新国际博览中心举行。

　　微电子专用装备是光电所的重点学科之一。团队30多年从事微电子专用设备的攻关与研制，先后获国家重大技术装备成果一等奖1项，国家科技进步奖三等奖2项；中科院重大科技成果一等奖1项；中科院科技进步奖一等奖4项、二等奖1项、三等奖1项；中科院自然科学奖三等奖1项；四川省科技进步二等奖1项等；各种国家及省部级奖励共计18项。近年来，在国家“极大规模集成电路制造技术”重大专项的支持下，就高端光刻装备关键技术及整机集成开展了大量研究。目前，光电所自主研发的光刻机产品主要有六类：URE-2000系列单面光刻机、URE-2000S系列双面光刻机、URE-2000D系列大面积光刻机、DS-2000系列数字无掩模光刻机、URE-2000/35系列紫外压印光刻机以及TYG-2000系列投影光刻机。迄今为止，由光电所研发的光刻机产品已经销售有400余台，部分产品已远销美国、新加坡、越南、朝鲜等国家，在国内外微细加工领域受到用户的一致好评。通过多年光刻设备的研发，光电所微电子专用设备总体研究室建立了较为完善的技术研发平台及研发团队，积累了丰富的整机集成经验。在国家重大专项“沿途下蛋”理念的指导下，不断进取，取得了丰富的成果。近期开发成功的URE-2000/35系列紫外压印光刻机就是在国家重大专项支持下取得的成果。在光电所的展位上，不少国际友人以及国内专业人士前来咨询、洽谈业务，还有诸多投资公司前来商讨合作事项。会展期间，有不少潜在客户签订了购买意向书。

　　SEMICON China自1988年首次在上海举办以来，已成为中国首要的半导体行业盛事之一，囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。

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