截止到9月10日，散裂中子源DTL腔体（共12支）已有6支电镀合格并完成了出厂验收，标志着该项目中存在的技术难点已经逐个被攻克，对确保DTL项目最终顺利竣工有着重要意义。

　　DTL腔体的电镀工作存在很多难点。尺寸大，长度约3米，内腔直径566mm；结构复杂，主腔大，侧孔多；技术要求高，镀层精度要求±0.10mm，表面光洁度0.8μm。在电镀工艺中，如何保证腔体尺寸精度、镀层均匀、基体结合力好、电导率高并无电镀漏点等，是电镀工艺的关键难点。

　　对于该项目，中国科学院高能物理研究所工厂组织成立了专项工作组，多次召开专项会议组织技术讨论和指导项目运行，并强调该项目的重要性。工厂技术部门通过对国、内外相关技术的深入研究和对国内电镀工艺的充分调研，多次讨论、筛选并确定了电镀协作厂家；生产部门派遣了专业技术人员驻厂工作，会同课题组有关人员与厂家一起进行技术攻关，并积极督导电镀工作。

　　通过多方不懈的努力，DTL项目已取得了重大的进展。在接下来的工作中，高能所工厂将继续保持现有的工作模式，全力保证该项目的最终竣工。

高能所DTL腔体加工取得进展

高能所DTL腔体加工取得进展