日前，中科院金属研究所高性能陶瓷材料研究部研究生何灵峰（导师为周延春研究员）发现的三种Hf-Al-C新化合物的X-射线衍射数据被国际衍射数据中心(ICDD)收录。有关化合物和JCPDS卡片号为Hf3Al3C5 59-310、Hf3Al4C6 59-311、Hf2Al4C5 59-312。